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RLK900高分辨率XAFS/X
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产品价格: 面议
经营模式: 生产/制造
企业性质: 有限责任公司
企业法人: 曾祥忠
成立时间: 2001
发布日期: 2021年4月13日
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西安中川光电科技有限公司
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地  址: 西安市高新区科技二路77号西安光电园
详细说明

RLK900高分辨率XAFS/XES光谱仪

RLK900高分辨率XAFS/XES光谱仪,是目前国际最先进的新型XAFS/XES光谱仪。RLK900居于新原理和新结构;采用独有的、专利的SBCA晶体,实现X射线的单色扫描;采用小功率的X-Ray源,使研究试验室内就能够方便运行。
RLK900高分辨率XAFS/XES光谱仪,可以完成XAS(X-ray Absorbtion SpectroScopy)和XES(X-ray Emmision Spectroscopy)两种光谱的研究,能够获得扫描范围5keV-12keV,分辨率优于1eV的谱线。
RLK900高分辨率XAFS/XES光谱仪,将信号探测、扫描控制、数据显示高度集成化,使用前只需简单的参数设置、校准确认,即可方便进行研究试验。
RLK900高分辨率XAFS/XES光谱仪,作为一种目前国际最新型的仪器,为各种材料研究分析拓展手段,用户能够在实验室就能随时开展研究,而不再受到条件限制。可广泛应用于各种材料研究分析领域,包括纳米材料、半导体材料、催化材料、生物材料、军用特种材料、矿产分析等。将成为材料研究必选设备。
v 产品特点(Features)
Ø 新原理新构造:居于新原理和新构造的X-ray光谱仪;
Ø 高分辨率:    采用独有的、专利的SBCA晶体作为核心器件,实现X射线单色扫描,分辨率达到1eV;
Ø 高品质能谱曲线:与同步辐射相当品质的能谱曲线;
Ø 试验室仪器:  在试验室就可完成XAFS/XES的研究,不再受到条件限制;
Ø 高集成性:    仪器集成探测、控制、分析,软件运行于Windows操作系统;
Ø 应用面广:    纳米材料、半导体材料、催化材料、生物材料、军用特种材料、矿产分析等各种材料研
究分析领域
v 技术指标(Specification)
型号Model
RLK900 高分辨率XAFS/XES光谱仪
原理Principle
SBCA晶体、Roland圆、X-ray单色扫描
能量范围
Energy Range
5KeV-12KeV
能量分辨率
Energy Resolution
0.5-1.5eV
工作模式
Working Mode
XAS/XES
布拉格角范围
Bragg Angle Range
65°-85°
X射线源
X-ray Tube
10W(Max)50KV@200uA(X 光点直径~0.5mm)
光学系统
Optics System
SBCA单色分光、Roland圆Bragg扫描(Roland 直径500mm)
探测器Detector
半导体电制冷SDD
通讯接口
Communication  interface
RS-232
工作电压
Power Supply
220VAC
工作温度
Temperature
-10℃  ~ +50℃
外形尺寸Dimension
1200(L)*1200(W)*1100(H)
重量Weight
350Kg
软件Software
RLK900专用软件(WindowsXP/Windows 7)


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